Specifieke toepassinge vaan plasmareinigers

Plasma-reinigings-/etsmasjienes generere plasma door twie elektrode in un aafgeslote houder te plaotse um un elektrisch veld te creëre. ‘n Vacuümpomp weurt gebruuk um ‘n bepaold vacuümniveau te behawwe. Naomaote ‘t gaas steeds zeldzaomer weurt, nump de aofstand tusse molecule en de vrije beweging vaan molecule of ione ouch touw. Oonder invlood vaan ‘t elektrisch veld bótse dees ione en vörme ze plasma. Dees ione zien zier reactief, mit genog energie um bekans alle chemische bindinge te breke, wat chemische reacties op elk blootgesteld oppervlak induceert. Versjillende gaasplasma’s höbbe versjillende chemische eigensjappe. Zuurstofplasma is beveurbeeld zier oxiderend, in staot um fotoresist te oxidere um gaas te producere, boedoor un reinigingseffect weurt bereik. Corrosief gaasplasma heet ‘n oetstekende anisotropie, die voldoet aon de vereiste vaan ètsing. Plasmabehandeling produceert un gloed, vandaor de naam gloedsjlaag.
Ut mechanisme vaan plasmazuivering is veural gebaseerd op de "activering" vaan actieve deilkes in ut plasma um oppervlaktevlekke te verwijdere. Wat ‘t reactiemechanisme betröf, umvat plasmareiniging euver ‘t algemein ‘t volgende perces: anorganische gasse weure opgewek tot ‘n plasmatoestand; gaasvormige stoffe weure op ‘t vaste oppervlak geadsorbeerd; de geadsorbeerde groepe reagere mit molecule op ‘t vaste oppervlak um produkmolecule te vörme; de produkmolecule ontbinde in de gaasfase; en de reactiereste weure vaan ‘t oppervlak verwijderd.

‘t Belangriekste kinmerk vaan plasmareinigingstechnologie is dat ‘t elk soort substraot kin behandele, boe-oonder metale, houfgeleiders, oxide en de mieste polymeermateriale wie polypropyleen, polyester, polyimide, polyvinylchloride, epoxy en zelfs polytetrafluoroethyleen. ‘t Kin zoewel ‘t ganse oppervlak es specifieke gebaeje, zoewie complexe gebouwe zuvere.